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      新聞中心

      Environmental Science & Technology報道我院新型選擇性抗性基因降解技術

      時間:2020/03/19

             抗生素的不合理使用導致抗性細菌及抗性基因的大量產生,已經成為全球關注的焦點問題,據估計到2050年將會有每年上千萬人因此而死亡。氯和紫外等水處理消毒技術雖然能夠較為有效地殺滅抗性細菌必发娱乐首页,但并沒有從根本上消除抗藥性風險,因為抗性基因仍然保持活性。然而,氯和紫外等傳統消毒技術很容易受水中污染物干擾,不能有效去除抗性基因。因此,發展具有選擇性的抗性基因降解技術勢在必行。


             我院袁青彬老師和萊斯大學Alvarez J.J. Pedro教授合作,利用分子印跡能夠選擇性識別污染物的特征,開發了基于DNA分子印跡的抗性基因選擇性光降解技術。本項目將DNA分子印跡負載到非金屬和環境友好的C3N4光催化材料表面,能夠選擇性地識別抗性基因必发娱乐首页,經過紫外光(360nm)降解30min即可降解超過99.9%的抗性基因,在模擬污染物和實際污水中均表現出良好的選擇性。此外必发娱乐首页,負載DNA分子印跡的C3N4還有效地實現抗性基因片段化降解,從而避免了抗性基因的再修復和重新表達必发娱乐首页。該技術為城市污水等環境中抗藥性的控制提供了新思路。

             研究成果已被環境科學類環境科學與工程領域頂級期刊Environmental Science & Technology接收,并于近日在線刊出,我院為第一單位必发娱乐首页。該研究受國家自然科學基金資助。

      論文鏈接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.est.9b06926


      作者:環境科學與工程學院;審核:張永軍



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